With the device downsizing dimensions to the nanometer range, current interest in nanotechnology is focused on the state-of-the-art lithographic development. And then, a great number of studies have been made on organized molecular thin films for nanopatterning and fabricating nanostructures using atomic force nicroscopy (AFM). In spite of the several nano-sized patterning techniques such as photolithography, extreme ultraviolet (EUV) lithography,e-beam lithography and imprint lithography, the nanolithography using AFM has drawn wide attractions in nanotechnology due to unique properties. AFM is used to fabricate patterns and structures in nano scale as well as to obtain topographic images of various surfaces. In this report, we overviewed the recent various nanolithographic techniques based on AFM such as AFM anodization lithography.

분자 전자 분야에서 칩의 크기가 점점 고집적화, 초소형화 되는 흐름에 따라, 나노테크놀로지 분야에서 가장 큰 관심사 중의 하나는 혁신적인 리소그래피 방법의 개발이다. 그에 발맞춰, 나노 패턴과 나노 구조물을 만들기 위한 많은 연구들이 최근 10여년 동안 행해져 오고 있다. 광 리소그래피, 극자외선 리소그래피, 전자선 리소그래피, 각인 리소그래피 등 나노 크기의 패턴을 만들어 낼 수 있는 여러 가지 리소그래피 방법들이 있지만, 현재 원자힘 현미경은 다양한 표면의 미세 상태를 알아보기 위한 장비로써의 역할 뿐 아니라 나노 크기 수준의 분자 구조물을 만들거나 패턴을 형성하는 장비로써도 많은 관심을 끌고 있다. 여기서는 원자 힘 현미경을 이용한 다양한 나노 패턴 또는 나노 구조물을 만드는 여러 가지 기술에 대해서 언급하고자 한다.