1. 서 론
다양한 섬유염색 공정 등에서 발생되는 염색폐수는 난분해성 유기 염료를 포함하고 있으며 높은 색도를 띠기 때문에 빛의 투과율이 낮 아 수생식물의 광합성에 영향을 미쳐 수질과 수중 생태계에 악영향을 끼친다[1]. 염료의 일반적 처리는 대부분 응집침전법 및 흡착법 등의 화학적 처리 방법에 의존하고 있으나 이들은 염료의 상만을 변화시킬 뿐 완전히 분해하지 못하여 추가적인 처리가 필요하므로 비효율적이 고 경제성이 낮은 단점이 있다[2,3]. 이를 극복하기 위하여, 경제적이 고 환경 친화적인 광촉매를 이용한 폐수 처리 연구가 활발하게 진행 되어 왔다[4,5]. 광촉매는 고유의 밴드갭 이상의 에너지를 갖는 빛을 조사하면 전자 및 정공이 발생하게 되고 이를 통해 촉매 표면에 흡착 된 유기물을 직접 분해하거나 물 분자의 산화에 의하여 생성된 ·OH 라디칼이 오염물질을 분해하게 된다[6]. 대표적인 광촉매 물질은 TiO2, Fe2O3, ZnO, WO3 등이 있으며, 이들은 고유한 밴드갭 에너지를 갖는다. 이중에서 특히, 광부식에 대한 저항력이 우수하고 밴드갭 에 너지가 2.6~3.0 eV 수준으로 낮아 가시광 영역의 파장에서 광촉매 반 응이 가능한 WO3을 산업적으로 활용하기 위한 연구가 관심을 받고 있다[7,8]. 그러나 WO3 광촉매를 산업적인 폐수 처리에 활용을 넓히 기 위해서는 활성이 뛰어난 WO3 광촉매를 제조하는 공정 단계의 간 소화를 통하여 공정 비용을 절감하여 경제성을 증대시키는 연구가 여 전히 필요하다. 광촉매 활성을 향상시키는 방법 중에서 이종 원소의 도핑 방법이 가장 효과적인 것으로 알려져 있다[35]. 이는 WO3 광촉 매에 이종 원소를 치환하여 밴드갭에 새로운 에너지 준위를 형성함으 로써 전자-정공쌍의 재결합을 억제시켜 광촉매 활성을 증가시킬 수 있다[9]. 도핑에 활용되는 이종 원소는 비금속(C, N, S, F 등)이온 및 기타 금속(Fe, Ti, Cu 등)이온 등이 연구되어 왔다. 이 중에서 금속재 료 도핑은 열 안정성과 경제성이 낮은 단점이 있어 이를 보완하기 위 하여 비금속 원소에 대한 연구가 특히 주목을 받고 있다[10-16]. 특히, 불소 도핑은 광촉매의 전기저항을 효율적으로 감소시켜 광촉매의 전 도성을 획기적으로 향상시킬 수 있는 것으로 알려져있다[14].
기존의 불소 도핑 방법들은 대부분 고온에서 소결이 완료된 광촉매 에 NH4F, H2TiF6, HF 등의 수용액을 첨가한 뒤 장시간 고온에서 열처 리하는 액상 도핑 방법이 주로 이용된다. 이 방법은 수차례의 소결 공 정으로 인한 번거로움과 독성이 강한 물질의 후처리 공정에 따르는 부식 및 안전상의 문제가 있다[14,24,26,27,30].
따라서 본 연구에서는 상기한 기존 불소 도핑 방법의 단점을 해결 하고자 액상 도핑 방법이 아닌 기상 불소화 방법을 이용하여 WO3 광 촉매의 소결 반응 전에 불소 가스를 원스텝(one-step)으로 직접 반응 시켜 WO3-xFx 광촉매를 제조하였다. 이 때 불소 가스 분압비에 따라 제조된 WO3-xFx 광촉매의 결정구조 및 표면 화학 구조 특성의 변화를 관찰하고 불소 도핑 함량이 광촉매 활성에 미치는 영향을 고찰하였다. 또한 광촉매 활성을 평가하기 위하여 메틸렌블루 염료에 대한 염료 광분해 효율 평가를 수행하였다.
2. 실 험
2.1. 시약 및 재료
WO3 광촉매를 제조하기 위하여 WCl6 (99.9%, Sigma-Aldrich)와 Urea (99.0~100.5%, Sigma-Aldrich)를 이용하였다. 불소 도핑을 위한 기상 불소화 반응은 불소가스(99.0%, Messer Griesheim GmbH)와 고 순도 질소가스(99.999%)를 이용하여 실시하였다. 또한, 불소가 도핑 된 WO3 광촉매의 가시광선 하에서의 염료 분해능을 측정하기 위해서 메틸렌블루(Methylene blue, pure, Acros)를 사용하였다.
2.2. WO3 광촉매 전구체 분말 제조
WO3 광촉매 전구체 분말의 제조는 이전의 연구에서[17] 사용된 방 법에 따라 제조하였으며 간략한 제조 방법은 다음과 같다. 우선 WCl6 0.4 g과 urea 0.6 g을 40 mL의 에탄올과 혼합한 후 상온에서 40 min 동안 교반하였다. 이 때 용액의 색깔이 연두색에서 진한 파랑색으로 변화되었다. 이 용액을 100 mL 용량의 teflon-lined stainless steel autoclave에 투입하여 밀봉하고 180 ℃에서 12 h (승온속도 10 ℃/min) 동 안 반응시킨 후 상온까지 냉각하였다. 제조된 WO3 광촉매 전구체 분 말은 원심 분리 장치를 통하여 여액과 분리한 후 오븐에서 60 ℃에서 4 h 동안 건조하였다.
2.3. 기상 불소화 반응
기상 불소화 반응은 회분식 불소화 장비를 사용하여 진행하였다. WO3 광촉매 전구체 분말 0.20 g을 니켈 보트에 투입 후 감압 펌프를 이용하여 반응기 내부를 진공 상태로 감압한 후 반응기 내부 온도를 상온에서 100 ℃까지 승온하였다. 반응기 내부 온도가 100 ℃에 도달 하였을 때, 불소 가스와 질소 가스의 압력 비를 각 3:7, 5:5, 7:3이 되 도록 주입하여 총 반응압력 1 bar가 유지되도록 한 후 10 min 동안 불소화 반응을 수행하였다. 반응 종료 후 반응기 내부에 질소 가스를 투입한 후 배기하는 과정을 수차례 반복하여 미반응 불소 가스를 제 거하였고, 질소 분위기 하에서 10 ℃/min의 승온율로 450 ℃까지 가 열한 후 3 h 동안 소결하였다. 제조된 WO3-xFx 광촉매 시료명은 불소 가스와 질소 가스 분압비에 따라 FN37-100-WO3, FN55-100-WO3 및 FN73-100-WO3로 각각 명명하였으며, 불소 도핑 전 후의 광촉매 특성 비교를 위하여 불소화 반응 처리 없이 동일 조건하의 450 ℃에서 질 소 분위기로 소결한 시료명을 WO3-450으로 명명하였다.
2.4. WO3-xFx 광촉매의 특성 분석
WO3-xFx 광촉매 분말 입자의 형태학적 변화와 조성 성분을 확인 하기 위하여 에너지 분산형 X-선 분광기(EDS, Oxford X-Max 50, Oxford, UK)가 장착된 전계방출형 주사현미경(FE-SEM, Hitachi S-4800, Hitachi, Japan)을 이용하였다. 그리고 기상 불소화 전후의 표면 화학 결합 구조 변화를 관찰하기 위하여 X-선 광전자 분광기(XPS, MultiLab 2000 spectrometer, Thermo Escalab, America)를 사용하였다. 또한 제 조된 WO3-xFx 광촉매 결정구조의 확인 및 변화를 관찰하기 위하여 다 목적 X-선 회절분석기(XRD, Empyrean, Netherlands)를 사용하여 2θ =10~70° 범위로 분석을 수행하였다. 불소화에 따른 밴드갭 에너지 변 화를 확인하기 위하여 반사-자외/가시선 분광광도계(DRS, Lambda 950 UV/Vis/NIR Spectrophotometer, PerkinElmer, America)를 사용하였다.
2.5. WO3-xFx광촉매의 염료 분해 특성
제조된 WO3-xFx 광촉매 시료의 메틸렌블루 염료에 대한 광분해 성 능 평가는 다음과 같이 수행하였다. 메틸렌블루 20 ppm 수용액 150 mL에 WO3-xFx 광촉매 시료 0.01 g을 투입한 후 150 W Xe lamp가 장 착된 인공 태양광 장치(PEC-L01, Peccell Technologies, Japan)를 통하 여 180 min 동안 조사하였다. 그리고 30 min 간격으로 3 mL의 메틸 렌블루 염료를 모액으로부터 채취하여 자외선 가시광선 분광광도계 (UV/Vis Spectrophotometer, Optizen 2120 UV, Mecasys Co. Ltd., Korea, λmax = 600nm)를 이용하여 메틸렌블루 농도 변화를 측정하였고, 이 때 채취된 3 mL의 메틸렌블루 염료는 농도 변화 측정 후 버려졌다.
3. 결과 및 고찰
3.1. WO3-xFx 광촉매의 형태 및 결정구조 특성
제조된 WO3 광촉매 및 WO3-xFx 광촉매 분말의 형태학적 변화를 고 찰하기 위하여 FE-SEM 분석을 수행하였고, 그 결과를 Figure 1에 나 타내었다. Figure. 1(a)와 (b)에서 보는 바와 같이, WO3-450와 FN37- 100-WO3의 경우 기상 불소화 반응 전후에 형태학적 변화가 크게 관 찰되지 않았다. 그러나 불소 가스 분압이 좀 더 증가한 경우[Figure 1(c) 및 (d)], 1차 입자들의 집합체(aggregation) 형성이 관찰되었고 불 소 가스 분압이 증가할수록 더 많은 입자들이 집합체를 이루고 있는 경향을 보였다. 이 결과는 입자들 표면이 불소화됨에 따라 입자 표면 에 생성되는 W-F 결합이 증가하게 되고, 이로 인한 입자간의 결합력 증가에 기인한 결과로 사료된다[31].
Figure 2에는 불소 도핑 전후의 WO3 광촉매의 결정구조의 변화를 확인하기 위한 XRD 분석결과를 나타내었다. WO3-450의 경우 2θ = 15, 29, 31° 부근에서의 회절 피크가 관찰되었고, 이 결과로서 WO3-450 시료의 결정구조는 입방정계(cubic)의 WO3 광촉매 결정구 조(JCPDS: 46-1096)를 가지고 있음을 알 수 있었다. 이와 달리 불소 도핑된 모든 WO3-xFx 광촉매 시료의 경우 2θ = 15, 29, 31° 부근에서 의 회절 피크뿐만 아니라 2θ = 14, 24, 28° 부근에서 새로운 회절 피 크가 생성되는 것이 관찰되었다. 후자의 특성 피크는 육방정계 (hexagonal) WO3 광촉매 결정구조(JCPDS: 85-2460)를 보여주는 회절 피크이다[33]. 이 결과는 불소화 처리가 WO3 광촉매의 결정구조 변화 에 영향을 미친다는 선행 연구결과로 미루어 보았을 때, 기상 불소화 반응에 의하여 입방정계의 WO3 광촉매 결정구조와 함께 육방정계의 WO3 광촉매 결정구조가 새롭게 형성됨을 시사한다[31]. 한편, 입방정 계 결정구조를 나타내는 2θ=15, 29, 31° 에서의 피크 세기 변화를 관 찰하면 WO3 -450와 비교하여 FN37-100-WO3의 경우는 피크 세기 변 화가 거의 없으나 FN55-100-WO3에서 감소하여 가장 작은 값을 보였 으며, FN73-100-WO3의 경우 FN55-100-WO3의 값보다 증가하는 경향 을 보였다. 또한 육방정계 결정구조의 존재를 나타내는 2θ = 14, 24, 28° 부근에서 나타나는 특성 피크의 세기 변화를 관찰할 경우, 불소 도핑된 FN37-100-WO3 및 FN55-100-WO3의 경우 해당 피크 세기가 증가하지만 불소 가스 분압이 가장 높은 FN73-100-WO3의 경우에서 오히려 피크 세기가 작아지는 것을 관찰할 수 있었다. 상기한 결과들 을 통하여 불소 가스 분압이 증가할수록 육방정계 WO3 광촉매 결정 구조가 증가하지만 오히려 과량의 불소 가스가 주입되면 다시 감소하 는 것을 알 수 있었다. 이는 과량 주입된 불소 가스에 의하여 형성된 다량의 불소 라디칼이 결정화 과정에서 육방정계 WO3 광촉매 결정 형성을 방해하기 때문인 것으로 사료된다.
3.2. WO3-xFx 광촉매 표면 화학적 특성
기상 불소화 반응에 따른 표면의 화학적 특성의 변화를 알아보기 위하여 XPS 분석을 수행하였다. W4f 및 O1s의 코어 레벨 주사 스펙 트럼 피크를 분할하여 Figure 3 및 Figure 4에 각각 나타내었고, 각 피 크에 대한 원소 함량을 Table 1에 정리하였다. Figure 3과 Table 1에 의하면, W6+ 와 W5+로 분리될 수 있는 W4f 코어 레벨 피크가 모든 시료에서 관찰되었다. 38.0 eV 및 35.8 eV 부근에서 발견된 W6+에 귀 속되는 W4f5/2, W4f7/2 피크와 36.9 eV, 34.8 eV 부근에서 발견된 W5+ 에 귀속되는 W4f5/2, W4f7/2 피크가 확인되었다[18]. Figure 3에서 보여 지는 바와 같이, W6+ 원자함량비가 감소할 때 W5+ 원자함량비가 증가 하는 경향을 보이며 이는 산소 결핍 자리(oxygen vacancies)가 증가함 을 나타낸다[19]. 이는 Table 1의 W5+ 원자함량비 변화와 동일한 경향 을 나타내며, WO3-450의 경우 W5+ 원자함량비가 11.38%를 나타내었 으나 불소 가스 분압이 증가하는 FN37-100-WO3, FN55-100-WO3의 경우 각각 15.66% 및 17.75%로 증가하는 경향을 보였다. 그러나 불소 가스 분압이 가장 높은 FN73-100-WO3의 경우, 10.36%로서 오히려 감소하였다. 한편, Figure 4에서는 530.5 eV, 532.0 eV 부근에서 두 개 의 피크가 생성되는 것을 관찰할 수 있으며 이는 각각 격자 산소 (lattice oxygen)와 산소 결핍 자리를 나타낸다[20,21]. FN37-100-WO3 와 FN55-100-WO3의 산소 결핍 자리 영역의 비율은 각 16.76% 및 18.41%로서 WO3-450의 산소 결핍 자리 영역의 비율이 11.88%인 것 과 비교하여 불소 가스 분압 증가에 따라 산소 결핍 자리가 약 41~55% 범위로 증가된 것을 알 수 있다. 그러나 앞선 W4f 피크 분할 결과와 마찬가지로 FN73-100-WO3의 경우는 산소 결핍 자리 영역의 비율이 11.83%로 미처리 시료와 유사한 결과를 보였다.
이러한 결과들로 미루어 볼 때 WO3-xFx 광촉매 결정 형성에 의해 치환된 불소 원자가 증가함에 따라 텅스텐 원자의 산화수가 감소하게 되고 동시에 산소 결핍 자리가 증가함에 기인한 결과로 사료된다. 또 한 기상 불소화 반응에 의한 불소 결합 형성 여부를 확인하기 위하여 불소화 반응 전후의 시료에 대한 F1s 코어 레벨 피크를 Figure 4 (e)에 나타내었다. 불소화 처리된 시료의 경우 모두 680~695 eV에서 불소 도입 여부를 나타내는 F1s 피크가 관찰되었으나, WO3-450 시료에서 는 해당 결합에 너지 위치에서 피크가 관찰되지 않았다[22]. 이러한 결과를 통하여 기상 불소화에 의한 불소 도핑이 이루어졌음을 확인하 였다. 또한 Table 2에 나타난 바와 같이, XPS분석 결과로부터 나타난 각 텅스텐, 산소, 불소 원자함량비를 기반으로 각 불소 가스 분압비에 따라 제조된 WO3-xFx 광촉매 구조의 x값을 결정하였고, 그 값은 FN37-100-WO3, FN55-100-WO3 및 FN73-100-WO3 시료에 대하여 각 각 WO2.87F0.13, WO2.77F0.23 및 WO2.62F0.38이었으며 불소 가스 분압비 증가에 따라 도핑된 불소 함량도 증가함을 알 수 있었다. Figure 5는 불소 가스 분압비 증가에 따른 성분원소들의 함량 변화를 알아보기 위한 EDS 분석 결과로, 각 원소 함량비와 원소 분석 매핑(mapping) 결과를 각 Figure 5 (a)와 Figure 5 (b)에 나타내었다. 불소 가스의 분압비가 증가함에 따라 도핑된 불소 원자 함량이 증가하였으며, 이는 앞서 언 급한 Figure 4(e)의 F1s 피크 결과와 동일한 경향을 보인다. 한편, 산소 함량의 경우는 불소 가스 분압비가 증가함에 따라 감소하는 결과를 나타내었다. 그러나 불소의 도핑량이 증가한 FN73-100-WO3의 경우 는 불소 가스 분압비가 증가할수록 불소의 도핑량은 증가하나, 3.1절 에 설명한 것처럼 광촉매 활성 증대에 관여하는 WO3-xFx 광촉매 결정 형성에는 기여하지 못하고 불소와 텅스텐원소의 비결정성 결합이 형 성되기 때문인 것으로 사료된다.
3.3. WO3-xFx 광촉매의 광흡수 특성
UV 혹은 가시광선 흡수끝(absorption edge)이 광촉매의 밴드갭 에 너지와 관련되기 때문에 광촉매 활성을 평가하기 위해서는 광흡수 스 펙트럼의 관찰이 필요하다. 기상 불소화 반응에 따른 시료들의 UV-vis 흡수 스펙트럼 변화를 관찰하기 위하여 얻은 DRS 분석 결과 와 그 결과로 계산된 밴드갭 에너지를 각각 Figure 6(a) 및 (b)에 나타 내었다. Figure 6(a)의 흡수 스펙트럼 곡선에서 보는 바와 같이, 불소 가 도핑된 시료들이 WO3-450보다 266~470 nm범위에서 자외선 및 가 시광선 파장 영역에서 많은 양의 빛을 흡수하는 것을 알 수 있었다. 그리고 WO3-450 시료의 흡수끝은 437 nm인데 반해 불소화된 FN37- 100-WO3, FN55-100-WO3 및 FN73-100-WO3 시료의 경우 흡수끝은 각각 약 465, 470 및 461 nm 값을 나타내었다. 이는 불소 도핑하면서 적색 편이(red shift)가 일어나 파장이 길어진 것으로 사료된다. 한편, 광촉매의 밴드갭 에너지는 식(1)에서 나타낸 것처럼 광자 에너지에 대 한 Kübelka-Münk 함수 F(R) 변환값의 제곱근 그래프를 이용하여 예 측할 수 있다[32].
식(1)에서 F(R)은 Kübelka-Münk 함수값이고, hν는 광자가 가지는 에너지를 나타낸다. hν의 값을 x축으로 하고 식(1)로부터 얻어진 값 을 y축으로 그린 그래프에 외삽된 접선으로부터 밴드갭 에너지를 추 정할 수 있다. Figure 6(b)에서 보는 바와 같이, FN37-100-WO3, FN55- 100-WO3 및 FN73-100-WO3의 밴드갭 에너지는 각각 2.60, 2.54 및 2.65 eV로서 FN55-100-WO3 시료가 가장 작은 값을 나타내었다. WO3-450 의 밴드갭 에너지는 2.95 eV로 이는 상기한 Figure 6(a)의 흡수 스펙트럼 분석 결과에서 불소 도핑된 시료들이 WO3-450 시료와 비교하여 적색 편이(red shift)가 이루어졌음을 고려하여 유추한 결과 이며, 이 결과는 이전의 연구 결과에서 불소화 되지 않은 WO3 광촉매 의 밴드갭 에너지 값이 2.6~3.0 eV 범위에 있다는 결과와 일치하였다 [7]. 따라서, 불소화된 시료들과 WO3-450의 밴드갭 에너지를 비교하 였을 때 14% 감소한 FN55-100-WO3 시료를 포함한 모든 시료들의 밴 드갭 에너지가 감소했음을 알 수 있었다. 이는 불소 도핑량이 증가할 수록 산소 결핍 자리가 증가하고 이에 따라 밴드갭 에너지가 감소한 다는 이전의 연구결과와 일치하는 경향을 보였다[23-25]. 반면, FN73- 100-WO3 시료의 경우 불소 도입량이 가장 많음에도 불구하고 밴드갭 에너지 감소가 다른 불소가 도핑된 시료들과 비교하여 다소 작게 나 타났다. 이는 육방정계 WO3 광촉매 결정구조를 이루는 경우 다른 상 의 결정구조를 가지는 WO3 광촉매보다 밴드갭이 작아 염료 분해 성 능 증가에 영향을 미친다는 선행 연구결과와 앞서 언급한 3.1절의 XRD 분석 결과를 종합하였을 때, 불소가 과량으로 도입된 FN73- 100-WO3 시료는 결정화 과정에서 육방정계 WO3 광촉매의 형성이 원 활하지 않아 밴드갭 감소가 작게 이루어 진 것으로 사료된다[34].
3.4. WO3-xFx 광촉매의 염료 분해 성능 평가
제조된 WO3-xFx 광촉매 시료의 가시광하에서의 광촉매 성능을 확 인하기 위하여 메틸렌블루 염료를 대상으로 성능 평가를 수행하였고 그 결과를 Figure 7(a)에 나타내었다. Figure 7(a)에 의하면 불소 도핑 된 시료들의 염료 분해 성능이 WO3-450 시료와 비교하여 불소화 조 건에 따라 경향이 완전히 다름을 확인할 수 있었다. 염료 분해 성능이 가장 우수한 FN55-100-WO3 시료의 경우 초기 분해율이 높아 반응 시 작 후 30 min 동안의 분해율이 60%에 달하고 최종적으로 71%의 염 료가 분해된 것을 확인할 수 있었다. 이와 비교하여 불소가 도핑 되지 않은 WO3-450 시료의 초기 분해율은 10%로 나타나며, 최종 분해율은 23%로 다소 낮은 것으로 나타났다. 불소 도핑 후 초기분해율이 6배 증가한 것으로 미루어 보아 이는 단시간 내에 효과적인 염료 분해 성 능을 보이는 것으로 사료된다. 그러나 FN73-100-WO3 시료의 경우는 오히려 메틸렌블루 분해능도 미처리 시료에 비하여 좋지 않은 것으로 나타나 광촉매 표면에 과불소화가 일어나게 되면 오히려 그 효과가 떨어지는 것으로 판단된다. Table 3에는 Figure 7의 염료 분해 성능 결 과로부터 나타난 각 시료들의 광분해 효율과 앞서 XPS O1s 및 DRS 분석 결과로부터 얻은 산소 결핍 자리 및 밴드갭 에너지 값을 함께 비교하여 나타내었다. 이전의 연구 결과에 따르면, WO3 광촉매의 산 소 결핍 자리가 증가할수록 밴드갭 에너지가 감소하게 되고 이에 따 라 광분해 성능이 증대된다고 보고된 바 있다[29]. Table 3에서 보는 바와 같이 시료들의 산소 결핍 자리 비율이 높을수록 밴드갭 에너지 가 감소하고 광분해 효율이 증가하는 경향을 보였다. 이 결과는 불소 도핑에 의하여 산소 결핍 자리 생성이 촉진되고 그로 인해 밴드갭 에 너지가 낮아지는 것에 기인한 결과로 사료되며 이전 연구 결과와도 일치하였다[26-28]. 그러나 과불소화된 FN73-100-WO3 시료의 경우 오히려 광분해 효율이 미처리 시료보다도 증가하지 않았는데, 그 이 유는 앞서 3.3절에서 고찰한 바와 같이 광촉매 활성을 증대시키는 육 방정계 WO3-xFx 광촉매 결정 형성이 이루어질 때 밴드갭이 감소하며 염료 분해 성능 또한 증대된다. 그러나 FN73-100-WO3 시료는 불소가 과량으로 도입되었기 때문에 육방정계 WO3 광촉매 결정구조의 생성 이 원활하지 않았던 것으로 보여진다. 또한 육방정계 WO3 광촉매 결 정구조를 이루는 최적 불소화 조건이 존재하는 것으로 사료되며, 최 적 불소화 조건은 불소 가스와 질소 가스의 분압이 5:5를 이루는 조건 인 것으로 판단된다.
4. 결 론
본 연구에서는 WO3 광촉매의 불소 도핑에 따른 가시광 영역에서의 활성 증대를 도모하고자 기존의 방법보다 경제적이고 간편한 기상 불 소화 방법에 의해 WO3-xFx 광촉매를 제조하였다. 불소 도핑된 WO3-xFx 광촉매의 밴드갭 에너지는 2.54 eV로서 미처리 WO3 광촉매와 비교하 여 약 14% 감소하였다. 제조된 WO3-xFx 광촉매의 가시광 영역에서 광 촉매 초기 분해율은 불소가 도핑되지 않은 WO3 광촉매와 비교하였을 때 6배 증가하였다. 이와 같은 광촉매 활성 증가는 WO3 광촉매 표면 에 불소 도핑의 의해 생성된 산소 결핍 자리 촉진에 의한 표면 결함 형성과 밴드갭 에너지 감소에 기인하는 것으로 여겨진다. 그러나 불 소가 과량으로 도입되면 육방정계 WO3 광촉매 결정구조의 생성이 원 활하지 않으며, 이 결과로 인하여 밴드갭 감소폭이 작아지고 이에 따 라 염료 분해 성능도 감소한다.