1. 서 론
화학 공정에 있어 산 촉매는 다양한 화학 반응에 없어서는 안 될 중요한 물질이다. 황산과 같은 전통적인 산 촉매는 반응계에 균일하 게 혼합되어 사용되며 반응 효율을 높일 수 있는 장점이 있지만 이와 같은 균일 촉매는 반응 혼합물로부터 분리하는 것이 어렵고 많은 비 용이 요구되기 때문에 재활용이 불가능하다. 뿐만 아니라, 산의 제거 과정에서 발생하는 다량의 폐기물의 처리에도 추가적인 비용이 발생 한다. 이와 같은 균일 산 촉매의 단점을 극복하기 위해 불균일 고체 촉매에 대한 다양한 연구가 진행되어 왔다. 이들 고체 촉매는 안전할 뿐만 아니라 분리가 쉽고, 재활용이 가능한 친환경적인 소재로 기존 의 산 촉매를 대체할 수 있는 큰 잠재력을 가지고 있다[1,2]. 고체 산 촉매를 제조하는 방법 중 가장 잘 알려진 방법은 메조기공 실리카 [3,4], 다공성 탄소[5] 및 그래핀 표면[6,7]에 술폰산(-SO3H) 작용기를 도입하는 것이다. 특히, 메조기공 실리카의 경우 기공 크기의 조절이 가능하고, 넓은 비표면적을 가질 뿐만 아니라 표면의 실라놀(Si-OH) 과 알콕시실란의 silylation 반응을 유도하여 술폰산 작용기를 손쉽게 도입할 수 있다[4,8]. 메조기공 실리카 산 촉매는 에스테르화 반응 [9,10], 가수분해[11], 비스페놀-A 제조[12] 및 개환중합[8] 등 그 적용 범위가 다양하다.
개환중합의 경우 polycaprolactone (PCL) 및 polydimethylsiloxane (PDMS)와 같은 생체적합성 고분자[13]의 제조에 활용되는 기술로써 일반적으로 중금속, 강산, 강염기 등의 균일 촉매를 사용한다. 하지만 균일 촉매의 경우 촉매의 완전한 제거가 쉽지 않고 고분자 내에 잔존 하여 중합체를 오염시킬 수 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 Jones 등[8]은 SBA-15의 표면에 술폰산 작용기를 도입하여 불균일 산 촉매로 사용함으로써 PCL을 성공적으로 합성하였다. 특히, PDMS는 인체 보형물, 화장품의 원료 및 인조 피부[14] 등에 광범위하게 활용 되는 소재로써 중합 이후 촉매의 분리가 쉽지 않아 이를 극복하기 위 해 acid resin[15], activated clay[16], solid super acid[17,18] 등과 같은 다양한 고체 촉매의 개발이 이루어진 바 있다. 한편, 메조기공 실리카 를 이용하여 고체 산 촉매를 제조한 후 이를 octamethylcyclotetrasilxoane (D4)의 개환중합에 활용한 연구사례는 지금까지 보고된 예가 없다.
본 연구에서는 1.7과 2.8 nm의 기공 크기를 가지는 2종의 MCM-41 과 8.1과 15.9 nm의 기공 크기를 가지는 2종의 SBA-15을 합성한 후 각 실리카 표면에 술폰산 작용기를 도입하여 고체 산 촉매를 제조하 였다. X선 회절분석(XRD), 적외선분광분석(FT-IR), 전자주사현미경 (SEM) 및 질소 흡탈착법을 이용해 제조된 메조기공 고체 산 촉매의 특성 분석을 실시하였다. 제조된 각 고체 산 촉매를 이용하여 D4의 개 환중합을 실시하여 PDMS를 합성하였다. 고체 산 촉매 및 중합 시간 의 변화에 따른 전환율, 중합 속도 및 분자량의 특성 변화를 열중량 분석(TGA), 핵자기공명분석(NMR), 겔투과크로마토그래피(GPC)를 이 용하여 비교 분석하였다.
2. 실 험
2.1. 시약 및 기기
Poly(ethylene glycol)-block-poly(propylene glycol)-block-poly(ethylene glycol) (P123, EO20PO70EO20; Aldrich), 플루오린화 암모늄(NH4F; Aldrich), cetyltrimethylammonium bromide (CTAB; Aldrich), n-octyltrimethylammonium bromide (OTAB; TCI), 염산(HCl; 삼전화학, 35.0~ 37.0%), 황산(H2SO4; Alfa, 95.0~98.0%), tetraethyl orthosilicate (TEOS; Acros, 98%), sodium silicate solution (Aldrich, 27% SiO2, 14% NaOH), 헵탄(삼전화학, > 99.0%), 무수 톨루엔(Alfa, 99.8%), (3-mercaptopropyl) trimethoxysilane (MPTMS; Aldrich, 95%), 과산화수소(삼전화학, 30.0~35.5%), 아세톤(삼전화학, 99.5%), octamethylcyclotetrasilxoane (D4; TCI, > 98.0%)와 hexamethyldisiloxane (MM; Alfa, 99.7%)은 구매 후 별도의 정제 없이 그대로 사용하였다.
2.2. 메조기공 실리카의 합성
2.2.1. SBA-15
SBA-15는 15와 8 nm 기공 크기를 타깃으로 structure-directing agent 인 Pluronic 123 (P123, EO20PO70EO20)를 사용하여 제조하였다[19]. 15 nm 기공 크기의 SBA-15 합성법은 다음과 같다. P123 15 g과 NH4F 0.12 g를 염산 수용액에 녹인 후 용액을 빠른 속도로 교반시키며 TEOS 34.3 g과 헵탄 106 mL를 천천히 적하하였다. 상기 수용액을 오 토클레이브에 옮겨 담고 100 ℃ 조건에서 24 h 동안 반응을 진행하였 다. 반응 종료 후 생성물을 필터링하였으며 증류수에 수차례 씻은 후 100 ℃ 오븐에서 2 h 동안 건조한 후 550 ℃에서 6 h 동안 하소 (calcination)하였다.
8 nm 기공 크기의 SBA-15 제조의 경우 P123 14 g을 1.6 M 염산 수 용액 570 mL에 녹인 후 TEOS 33 g을 서서히 적하하였으며 이후 공정 은 15 nm 기공 크기의 SBA-15 제조 방법과 동일하게 진행하였다[20].
2.2.2. MCM-41
MCM-41은 1.5와 3 nm 기공 크기를 타깃으로 두 종류를 제조하였 다. 3 nm 기공의 MCM-41 합성법은 다음과 같다[21]. Structure-directing agent인 CTAB 2.73 g과 0.2 M 황산 수용액을 오토클레이브에서 15 min 동안 50 ℃에서 교반시킨다. 증류수 45 g에 sodium silicate solution 4.05 g을 섞어 준비한 후 CTAB 및 황산 수용액에 한 방울씩 떨어트리고 30 min 동안 교반한다. 150 ℃ 오토클레이브에서 36 h 동 안 에이징시킨다. 생성물을 필터링하고 증류수에 수차례 씻어낸 후 100 ℃ 오븐에서 1 h 동안 건조시킨다. 그 후, 550 ℃에서 6 h 동안 하소(calcination)시킨다. 1.5 nm 기공 크기의 MCM-41은 CTAB 대신 OTAB를 사용하여 제조하였다.
2.3. 고체촉매의 합성
2.3.1. 술폰산 작용기가 도입된 메조기공 실리카의 제조
리플럭스 콘덴서가 장착된 500 mL 플라스크에 하소 처리가 완료된 각 메조기공 실리카 10 g, MPTMS 10 g, 무수 톨루엔 200 mL 및 마 그네틱 바를 넣고 80 ℃에서 24 h 동안 교반하여 반응하였다. 반응 종료 후 생성물은 진공필터 하였으며 이때 톨루엔과 아세톤을 순차적 으로 사용하여 미 반응 물질을 완전히 제거하였다. 세척이 완료된 생 성물을 필터에서 회수하여 60 ℃ 진공오븐에서 24 h 건조하였다. 티 올 작용기가 도입된 메조기공 실리카 10 g, 증류수 80 mL, 과산화수 소 120 mL 및 마그네틱 바를 500 mL 둥근 바닥플라스크에 넣고 질소 분위기 하에서 7 h 동안 상온에서 교반하였다. 반응 종료 후 생성물을 진공필터하며 물과 아세톤을 순차적으로 사용하여 세척한 후 60 ℃의 진공오븐에서 24 h 동안 건조하였다.
2.4. 메조기공 고체 산 촉매를 사용한 PDMS의 제조
리플럭스 콘덴서를 장착한 25 mL 2구 둥근 바닥 플라스크에 D4의 개환중합을 질소분위기 하에서 실시하였다. 메조기공 고체 산 촉매와 마그네틱 바를 넣고 질소 분위기로 반응기 내부를 치환한 다음 반응 기의 온도를 80 ℃로 유지하였다. D4 10 g과 MM 0.15 g을 주사기를 이용하여 상기 반응기에 주입한 후 80 h 동안 중합을 실시하였다. 중 합이 종료된 후 생성물과 고체 산 촉매는 필터를 이용하여 분리하였 으며 생성물을 열중량 분석하여 전환율을 확인하였다. 생성물에 잔류 하는 미반응 단량체는 180 ℃의 온도에서 고진공으로 제거하였다.
2.5. 특성 분석
X-선 회절분석(XRD)은 Cu Kα 방사선을 사용하여 Dmax2500/PC 분석기에서 기록되었다. 실리카와 촉매의 기공 크기 및 표면적은 Belsorp-Max로 얻은 질소 흡탈착 데이터를 사용하였다. 표면적은 Brunaer-Emmett-Teller (BET) 방법으로 분석되었고 기공 크기 및 크 기 분포는 등온선의 흡착면에 적용된 Barrett-Joyner-Halenda (BJH) 방 법과 t-plot을 통해 계산되었다. 전사주사현미경(SEM) 분석은 SM-6701F 기기를 통해 스캔하여 촉매의 크기와 형태를 확인하였다. 적외선분광 분석(FT-IR) 스펙트럼은 KBr 펠렛을 사용하여 투과모드로 분석하였 다. 열중량 분석(TGA)은 TGA4000을 사용하여 질소분위기 하에서 10 ℃/min 속도로 30~700 ℃ 온도범위에서 수행하였다. 핵자기공명분석 (NMR) 측정은 측정 용매로 CDCl3를 사용하였으며 Bruker 300으로 수행되었다. 모노머의 전환율은 TGA를 통해 확인되었다. 젤 투과 크 로마토그래피(GPC)는 EcoSEC HLC-8320기기를 사용하여 PDMS의 분자량 및 분자량 분포(molecular distribution)를 측정하였다.
3. 결과 및 고찰
3.1. 촉매의 특성 분석
서로 다른 기공 크기 및 표면 특성을 갖는 4종의 메조기공 실리카 입자의 표면에 프로필 술폰산 작용기를 도입하여 고체 산 촉매를 제 조하였다. Scheme 1에 단계별 촉매 제조 과정에 대해 나타내었다. 메 조기공 실리카 표면의 실라놀 그룹과 MPTMS 간의 실릴레이션 반응 을 유도하여 표면에 티올 작용기를 형성시킨다. 각 지지체 표면에 도 입된 티올 작용기는 과산화수소를 이용한 산화반응에 의해 프로필 술 폰산 작용기가 형성된다. Table 1에 본 연구에서 제조된 4종의 메조기 공 실리카와 이를 지지체로 하여 제조된 고체 산 촉매의 특성에 대해 나타내었다. 각각의 메조기공 실리카 표면에 술폰산이 도입되었을 때 비표면적과 기공 부피가 감소하고 d-spacing과 wall thickness가 증가 하는 경향을 나타낸다. 이러한 경향은 각 메조기공 실리카 기공 내부 의 실라놀 그룹과 MPTMS 간의 축합반응 이후 산화반응에 의한 술폰 산 작용기의 생성에 기인하며[12], 각 메조기공 고체 산 촉매에 최종 적으로 도입된 술폰산 작용기의 비율이 높을수록 비표면적의 감소 값 이 커진 것을 확인할 수 있다.
프로필 술폰산 작용기의 도입 전과 후의 메조기공 실리카에 대한 저각 X-선 회절 분석(low angle X-ray diffraction)을 실시하였으며 그 결과를 Figure 1에 나타내었다. 메조기공 실리카 샘플은 대부분 잘 정 렬된 육각 구조를 나타내는 (100) 회절과 잘 분리된 (110) 및 (200) 회 절을 가진다[22,23]. 각 샘플에 대한 (100) 회절 피크 위치는 모두 다 르게 나타나 unit cell의 크기가 모두 다르다는 것이 확인되었다. Table 1에서 볼 수 있듯이, 큰 기공의 SBA-15의 경우 기공 크기가 매우 커 (100) 회절선이 측정할 수 있는 2θ 범위를 벗어나며 작은 기공 크기 의 SBA-15의 unit cell parameter가 12.2 nm로 측정 되었고, MCM-41 의 (100) d-spacing이 3.4, 4.3 nm (unit cell parameter, a0는 각각 4.0, 5.0 nm)로 관찰되었다. 술폰산 작용기 도입 후, 촉매의 XRD 패턴은 메조기공 실리카와 동일한 좁은 (100) 피크를 나타내어 산 그룹 도입 에도 메조기공 구조가 무너지지 않았다는 것을 입증하였다. 그러나 지지체와 비교하여 촉매 샘플에 대해 약간의 intensity 감소가 관찰되 었다[12]. 이것은 메조기공 실리카 기공 내 표면에 산 그룹이 도입되 면서 메조기공 물질 벽과 기공 사이의 산란강도가 감소하기 때문이다. 따라서 산 그룹 도입이 주로 메조기공 기공 내에서 발생했음을 알 수 있다[24].
Figure 2는 지지체와 촉매의 질소 흡탈착 등온선을 보여준다. 모든 실리카 지지체와 촉매는 모세관 응집에 의한 급격한 상승을 가지는 type IV의 등온선을 나타내며, 이는 잘 정렬된 메조기공 실리카가 일 반적으로 가지는 특성이다[9,23]. 그러나 SBA-15는 H1 히스테리시스 루프를 보여주며, 이는 큰 원통형 기공 구조와 높은 기공 크기 균일성 을 갖는 재료의 특성이다[25]. 또한, 지지체와 촉매는 좁은 기공 크기 분포를 보이며 이는 기공이 균일한 크기로 이루어졌음을 보여준다. 촉매의 질소 흡탈착 그래프에서도 이러한 구조적 특성은 유지되며, 이는 XRD에서 논의된 바와 같이 산 그룹 도입에도 메조기공 구조가 보존되었음을 나타낸다.
질소 흡탈착 등온선으로부터 샘플의 기공 크기는 가장 작은 기공 크기를 가지는 MCM-41은 t-plot으로, 나머지 샘플은 BJH 방법을 이 용해 구하였고, 비표면적은 BET 방법을, 기공 부피는 P/P0가 0.99에 가장 가까운 한 점을 선택하여 계산하였다(Table 1). 모든 지지체는 다양한 물리적 특성을 보인다. 기공 크기는 두 종의 SBA-15가 각각 15.9, 8.1 nm으로 가장 크고 MCM-41이 각각 2.8, 1.7 nm를 가진다. 기공 부피는 기공 크기와 동일한 크기 순서를 가진다. 다만 표면적은 MCM-41이 972 m2/g으로 가장 큰 값을 가진다. 산 그룹이 도입된 후, SBA(15.9)-SO3H는 480 m2/g의 표면적, 1.28 cm3/g의 기공 부피를 가 져 지지체보다 34% 감소한 표면적과 22% 감소한 기공 부피를 보였 다. MCM(1.4)-SO3H, MCM(2.8)-SO3H, SBA(7.1)-SO3H 촉매 또한 지 지체에 대해 표면적과 기공 부피가 약 12~34% 정도 감소하였다. 이와 같이 질소 흡탈착 분석에 따른 표면적, 기공 부피 감소와 XRD 분석상 에서의 실리카 벽 두께의 증가는 메조기공 내부에 술폰산 작용기가 도입되었음을 명확하게 보여주는 결과이다[22].
제조된 고체 산 촉매의 입자 형태와 크기를 조사하기 위해 SEM 분 석을 실시하여 Figure 3에 정리하여 나타내었다. MCM(1.4)-SO3H (Figure 3a)는 입자가 넓고 큰 응집체를 형성하고 있는 것을 확인할 수 있다. MCM(2.8)-SO3H (Figure 3b)의 경우 500~800 nm 범위의 입자 크기를 가지고 있으며 입자 간의 응집체는 확인되지 않는다[24,26]. SBA(7.1)-SO3H (Figure 3c)는 원통형 구조로 비교적 균일한 입자 크 기를 가지고 있으며 SBA(15.9)-SO3H (Figure 3d)는 3 μm 이상의 상당 히 큰 입자 크기를 가지고 있음을 확인할 수 있다. 이는 SBA-15 (15.9 nm) 실리카 지지체 합성 시 사용한 암모늄 플로라이드의 플로라이드 이온은 실리카 전구체의 가수분해 반응과 축합 반응 속도를 촉진시키 며 입자크기를 증가시킨다고 알려져 있다[27].
FT-IR을 이용하여 메조기공 실리카 산 촉매의 술폰산 작용기의 형 성 여부를 확인하였으며 Figure 4에 SBA-15 (8.1 nm)와 SBA(7.1)- SO3H의 스펙트럼을 대표로 나타내었다. 지지체와 촉매는 사면체 실리 카의 특징적인 4개의 피크를 공통으로 가진다. 1080 cm-1에서 Si-O-Si 의 비대칭 진동, 960 에서 Si-O 굽힘 진동, 800 cm-1에서 대칭 진동, 467 cm-1에서 Si-O-Si와 O-Si-O의 굽힘 진동이 이에 해당한다. 또한 1640 cm-1에서 물의 O-H 굽힘 진동을 보여주었다. 촉매는 지지체 그 래프에서 확인되지 않는 5개의 피크를 추가로 가진다. 2850 cm-1에서 (CH2)3-SO3H기의 CH2 비대칭 신축, 1400 cm-1에서 SO2기의 S=O 비대 칭 신축, 880 cm-1 SO3H기의 S-OH 신축 진동, 603 cm-1에서 (CH2)3- SO3H기의S-C 신축이 명확하게 확인된다[22,28].
제조된 고체 산 촉매의 열중량 분석을 실시하여 각 촉매의 열적 특 성과 술폰산 작용기의 도입량을 비교하였다. Figure 5에서 보는 바와 같이 100 ℃ 부근에서 무게 감소는 촉매 내 흡수된 물의 증발에 의한 중량 손실이다. 술폰산 작용기의 분해는 두 단계로 이루어지며 약 240 과 400 ℃에서 술폰산 작용기의 분해가 명확하게 관측된다[3,29]. 각 촉 매의 술폰산 작용기의 함유량은 MCM(1.4)-SO3H는 1.9 wt%, MCM(2.8)- SO3H는 4.3 wt%, SBA(7.1)-SO3H는 2.9 wt%, SBA(15.9)-SO3H는 6.8 wt%로 각각 확인되며, 이를 이용하여 각 촉매의 1 g당 프로필 술폰산 작용기의 몰 비율을 결정하여 Table 1에 나타내었다[8].
3.2. 고체 산 촉매를 이용한 PDMS의 제조
4종의 메조기공 고체 산 촉매를 이용하여 MM : D4의 몰 비를 1 : 36으로 설정한 후 개환중합을 실시하였다. 고체 산 촉매의 함량은 동일 한 몰 비(0.096 mmol)로 조절하여 중합을 진행하였다. SBA(7.1)-SO3H 촉매를 이용하여 D4의 개환중합을 80 h 진행하여 생성된 PDMS의 1H-NMR과 29Si-NMR을 Figure 6에 나타내었다. 1H-NMR [Figure 6(a)] 에서 0.075 ppm의 PDMS의 특성 피크(Si-CH3)가 확인되며 0.098 ppm 에서 나타나는 D4 특성 피크는 나타나지 않는다. 또한 29Si-NMR [Figure 6(b)]에서 D4의 경우 -20 ppm에서 특성 피크를 나타내지만, 중 합 생성물의 경우 -22 ppm에서 PDMS의 반복단위인 Si-(CH3)2 피크가 확인되며, 7 ppm에서 PDMS의 양 말단기 피크인 Si-(CH3)3가 관찰되 었다. 모든 고체 산 촉매의 중합 생성물에 대해 동일한 NMR 결과가 확인되었으며 이는 제조된 고체 산 촉매에 의한 중합이 성공적으로 진행되었음을 보여주는 결과이다.
각각의 고체 산 촉매에 대해 중합 시간의 변화에 따른 D4 단량체의 전환율을 비교하여 그래프로 나타내었다(Figure 7). SBA(7.1)-SO3H는 12 h에 40%, 24 h에 74.5%, 48 h에 90%의 전환율을 나타내며 이후에 는 전환율이 더 이상 상승하지 않는다. MCM(2.8)-SO3H, SBA(15.9)- SO3H 촉매는 SBA(7.1)-SO3H에 비해 상대적으로 반응 속도가 느린 것으로 전환율의 상승이 80 h 반응 시간 이후 모두 90%의 전환율을 보인다. 다만, MCM(1.4)-SO3H는 80 h 경과 시 전환율이 75%로 90% 이상의 전환율을 달성하지 못하였다. D4의 개환중합에 있어서 고체 산 촉매를 사용할 경우 기존의 트리플산과 같은 균일 촉매를 사용할 경우와는 달리 교반 속도 등에도 단량체의 전환율이 영향을 받는 것 으로 알려져 있다. 이는 일정한 교반 속도에 이르지 못할 경우 고체 촉매가 반응계 내에 고르게 분산되지 않아 발생하는 현상이다. 즉, 동 일한 교반 속도의 중합 조건에서는 고체 촉매의 분산성능이 반응 속 도에 영향을 미칠 수 있으며 특히 MCM(1.4)-SO3H의 경우 입자의 상 당 부분이 회합체를 형성하고 있어 다른 촉매에 비해 분산성이 떨어 진다고 할 수 있다. 그뿐만 아니라 작은 기공 크기와 비표면적으로 인 해 단량체의 기공 내부로의 이동이 자유롭지 않고 촉매와의 접촉 확 률의 감소로 사슬의 개환 반응이 상대적으로 느린 것으로 판단된다. 중합 속도가 비교적 빠른 고체 산 촉매는 SBA(7.1)-SO3H와 MCM(2.8)- SO3H로 확인되며 SBA(7.1)-SO3H와 MCM(2.8)-SO3H 촉매는 비교적 작고 균일한 입자를 가지고 있어 반응계 내에 분산이 용이하기 때문 이다(Figure 3). 다만, SBA(7.1)-SO3H 촉매의 반응속도가 MCM(2.8)- SO3H 촉매에 비해 1.5배 빠르게 관측되며 이는 상대적으로 큰 기공 크기로 인해 D4 단량체 및 성장 중인 PDMS 고분자 사슬의 기공 내부 로의 이동이 훨씬 용이하기 때문으로 판단된다. 한편, SBA(15.9)-SO3H 는 가장 큰 기공 크기를 가진 것에 비해 낮은 촉매 활성을 보인다. 이 는, SBA(15.9)-SO3H가 다른 촉매에 비해 8배에서 10배 큰 입자크기를 가져 중합 진행에 분산의 어려움이 있기 때문이다. 또한 MCM(2.8)- SO3H는 가장 큰 비표면적을, SBA(15.9)-SO3H은 가장 큰 기공 크기를 갖고 있으나, 비표면적과 기공 크기가 촉매 활성에 항상 비례하지는 않는다는 것을 보여준다.
추가적으로 메조기공 실리카 산 촉매와 D4 단량체 간 중합 반응의 화학적 kinetic을 확인하고자 반응시간의 증가에 따른 D4의 농도 변화 를 계산하였다. 그 결과 Figure 8에 나타낸 바와 같이 모든 중합 반응 은 D4와 관련된 1차 반응임을 명확하게 확인할 수 있다[30]. 또한, 식 ln ([D4]0/[D4]t) = kt을 사용하여 실험값을 선형 근사하여 반응 상수 k 를 계산하였다(t = 반응 시간, [D4]0 = 초기 D4 농도, [D4]t = t에서의 D4 농도). 촉매에 따라 k 값은 SBA(7.1)-SO3H는 0.049 h-1, MCM(2.8)- SO3H는 0.032 h-1, SBA(15.9)-SO3H는 0.022 h-1 및 MCM(1.4)-SO3H는 0.016 h-1으로 각각 계산되었다.
Table 2에 각 메조기공 산 촉매의 D4 개환중합 반응(80 h)에 의해 생성된 PDMS 중합체의 분자량 특성 분석 결과를 정리하여 나타내었 다. 분자량 분석 결과 MCM(1.4)-SO3H 이외의 고체 산 촉매에서 경우 4272~5757 g/mol 범위의 분자량이 확인되며 super acid 고체 촉매 또 는 트리플산을 이용한 전통적 PDMS 중합법과 비교하여 비교적 큰 분 산도 값(3.0~3.5)의 PDMS가 생성되었음을 확인할 수 있다. 이는 실린 더 형태의 기공 내부에 술폰산 작용기가 배치되어 있어 PDMS 사슬의 길이가 증가함에 따라 기공 내부로의 사슬 이동에 장애가 발생하여 원활한 중합 반응이 진행되지 않기 때문으로 판단된다.
4. 결 론
프로필 술폰산으로 표면이 개질된 메조기공 실리카 촉매를 성공적 으로 합성하였다. 기공이 다른 두 가지 MCM-41과 SBA-15 4종을 합 성하여 표면을 술폰산으로 개질하여 고체 산 촉매를 합성하였다. 제 조된 각 고체 산 촉매는 프로필 술폰산 작용기가 성공적으로 메조 기 공 안에 도입되었으며 촉매가 서로 다른 기공 특성과 입자크기 및 형 태를 가지고 있음이 확인되었다. 각 촉매의 특성을 확인하기 위해, 메 조기공 고체 산 촉매를 사용하여 octamethylcyclotetrasiloxane의 개환 중합을 진행하였다. 촉매는 모두 PDMS 중합에 대해 활성을 가지며 촉매의 입자크기 및 기공 크기에 따라 중합 속도와 전환율의 차이가 나타났다. 대체로 기공 크기와 비표면적이 클 경우 높은 활성을 나타 내지만, 적절한 크기의 기공과 비표면적이 될 때 가장 활성이 좋고, 또한 입자 크기와 응집도에 따라서도 촉매 활성에 영향이 있음을 관 찰하였다. 4개의 메조기공 고체 산 촉매 중 SBA(7.1)-SO3H 촉매가 상 대적으로 가장 높은 촉매 활성을 나타내었다.