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ISSN : 1225-0112(Print)
ISSN : 2288-4505(Online)
Applied Chemistry for Engineering Vol.18 No.4 pp.314-319
DOI :

Research Papers : Destruction of Acetic Acid Using Various Combinations of Oxidants by an Advanced Oxidation Processes

Tae Ouk Kwon

Abstract

The destruction of synthetic acetic acid wastewater was carried out using UV, O3, H2O2, Fe2+ oxidants in various combinations by the advanced oxidation processes. UV/H2O2, UV/H2O2/Fe2+, O3, O3/H2O2, UV/O3/H2O2, UV/O3/H2O2/Fe2+ processes were tested. UV/H2O2/Fe2+, O3/H2O2, UV/O3/H2O2, UV/O3/H2O2/Fe2+ processes shows the most effective destruction efficiency at low pH (3.5) condition of wastewater, but UV/H2O2 and O3 processes were observed less than 20%. Destruction efficiency was gradually increased with the reaction time in the O3/H2O2 and UV/O3/H2O2 processes, in case of the UV/H2O2/Fe2+ and UV/O3/H2O2/Fe2+ processes shows rapid increasing of destruction efficiency within 90 min, then slightly decreasing with time. The destruction efficiencies of UV/H2O2/Fe2+, O3/H2O2, UV/O3/H2O2 and UV/O3/H2O2/Fe2+ processes were observed 55, 66, 66 and 64%, respectively.

연구 논문 : 다양한 산화반응을 조합한 고급산화공정의 아세트산 분해에 관한 연구

권태옥,박보배

초록

UV, O3, H2O2, Fe2+ 등의 산화반응을 조합한 고급산화 공정(advanced oxidation process)을 이용하여 아세트산 분해실험을 수행하였다. 적용된 고급산화 공정은 UV/H2O2, UV/H2O2/Fe2+, O3, O3/H2O2, UV/O3/H2O2 및 UV/O3/H2O2/Fe2+ 공정이었다. 낮은 pH (3.5)에서의 아세트산 분해율은 UV/H2O2/Fe2+, O3/H2O2, UV/O3/H2O2 및 UV/O3/H2O2/Fe2+ 공정은 비교적 높고, UV/H2O2와 O3 공정은 20% 이하로 낮게 나타났다. O3/H2O2, UV/O3/H2O2 공정의 아세트산 분해율은 반응시간 180 min까지 반응시간에 따라 지속적으로 증가하였으나 UV/H2O2/Fe2+, UV/O3/H2O2/Fe2+ 공정에서는 반응시간 90 min까지 아세트산 분해율이 급격히 증가한 후 그 이후에는 분해율의 증가가 미미하였다. 고급산화 공정별 아세트산 분해율은 UV/H2O2/Fe2+ 공정은 55%, O3/H2O2 공정 및 UV/O3/H2O2 공정은 66%, UV/O3/H2O2/Fe2+ 공정은 64%이었다.

Figure

Table