ISSN : 1225-0112(Print)
ISSN : 2288-4505(Online)
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Research Papers : Synthesis and Characterization of Poly[(1-p-styrenesulfonyloxy-4-tosyloxycyclohexane)-co-(tert-butyl methacrylate)] as Positive Acid-Amplifying Photoresists
Abstract
Acid-amplifying copolymers are synthesized by the copolymerization of tert-butyl methacrylate(tBNA) with acid sensitive functional group and 1-hydroxy-4-p-styrene-sulfonyloxy cyclobexane(HSC) or 1 p-styrene-sulfonylosy-4-tosyloxy cyclohezane(STC) with acid amplifying group as novel polymeric acid-amplifying photoresists. Poly(HSC co-rBNA ; film and poly(STC-co-tBNA) film showed reasonable thermal stability for resist processing temperature. Poly(HSC-co-tBNA) film shows 4 times lower photosensitivity and poly(STC-co-tBNA) film exhibits 1,3 times higher photosensitivity compared with ptBMA homopolymer. The attachment of acid-amplifying units to polymer backbones could provide a novel way to enhance the photosensivity of acid-sensitive polymers depending on the structure of acid-amplifying units
연구논문 : 포지티브 산 증식형 포토레지스트로 Poly[(1-p-styrenesulfonyloxy-4- tosyloxycyclohexane)-co-(tert-butyl methacrylate)]의 합성 및 특성 연구
초록
산에 민감한 작용기를 갖는 tert-butyl methacrylate (tBMA)와 산 증식 기능을 갖는 1-hydroxy-4-p-styrenesulfonyloxy cyclohexane (HSC) 또는 1-p-styrenesulfonyloxy-4-tosyloxy cyclohexane (STC)의 공중합체를 새로운 고분자 산 증식형 포토레지스트로 합성하였다. Poly(HSC-co-tBMA) film과 poly(STC-co-tBMA) film의 열적 안정성은 레지스트 공정 온도에 충분히 안정한 열적 안정성을 나타내었다. 광감도 특성은 poly(HSC-co-tBMA) film은 ptBMA homopolymer에 비교하여 약 4배 정도 떨어지고, poly(STC-co-tBMA) film homopolymer에 비해 약 1.3배 정도 우수함을 확인하였다. 고분자에 도입한 산 증식 기능을 갖는 그룹의 구조에 따라 광감도 증진 효과가 다르게 나타남을 확인하였다.