In this research, we synthesized and evaluated 1-hydroxy-4-p-styrensulfonyloxy cyclohexane. 1,4-di-p-stryrenesulfonyloxy cyclohexane, and 1-p-styrensulfonyloxy-4-tosyloxy cyclohexane as novel acid amplifiers. These acid amplifiers showed reasonable thermal stability for resist processing temperature. As estimated by the sensitivity curve, all the acid amplifiers were 2-5 times more sensitive than poly(tert-butyl methacrylate) film in the presence of a photoacid generator; and therefore, these can provided practical applicability in photoimaging.

본 연구에서는 1-hydroxy-4-p-styrenesulfonyloxy cyclohexane (1), 1, 4-di-p-styrene-sulfonyloxy cyclohexane (2), 그리고 1-p-styrenesul-fonyloxy-4-tosyloxy cyclohexane (3)을 산 중식제로 합성하고 그 성능을 평가하였다. 이러한 산 중식제들(1~3)은 레지스트 공정온도에 대하여 충분한 열적 안정성을 나타내었다. 또한 산 중식제를 사용한 경우에 광산 발생제만 사용한 poly(tert-butyl methacrylate) 필름에 비교하여 2배에서 5배 정도의 감도 증진이 일어나 광화상 제조에 효과적으로 응용할 수 있음을 확인하였다.